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| 石英儀器坩堝的主要用途和特性 | | 新聞來源： 點(diǎn)擊數(shù)：2533 更新時(shí)間：2015/1/12 17:41:06 收藏此頁 |
| 石英儀器坩堝可在1450度以下，透明和不透明的兩。用半透明石英坩堝電弧法是基于繪圖材料大直徑硅，對于大規(guī)模集成電路的發(fā)展。今天，世界半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)達(dá)國家已用坩堝代替透明石英儀器坩堝小。具有純度高，耐熱性強(qiáng)，精度高，體積大，保溫效果好，節(jié)能，質(zhì)量穩(wěn)定等。不能觸摸和HF，溫度高，易與苛性堿、碳酸堿金屬。
除了高頻，普通稀無機(jī)酸可用作清洗液。常用的繪圖單晶石英儀器坩堝的18英寸和20英寸的制造商也使用坩堝22及以上。國內(nèi)生產(chǎn)的坩堝廠家目前的18英寸和20英寸坩堝技術(shù)都比較成熟。生產(chǎn)和使用的石英砂原料主要由美國進(jìn)口。石英砂的國內(nèi)生產(chǎn)的純度達(dá)不到要求。在高溫熔融過程中雜質(zhì)的生產(chǎn)原料生產(chǎn)單晶硅上繪制時(shí)，黑色泡沫穩(wěn)定性有一定的影響。
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